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研究生: 張誌修
Chang, Chih-Hsiu
論文名稱: 探討二氧化鉿介電層與沉積後退火對二氧化碲基底金氧半電容特性之影響
Investigation of the Effects of Hafnium Oxide Dielecrtic and Post-Deposition Annealing on Tellurium Oxide-Based MOS Capacitors
指導教授: 李文熙
Lee, Wen-Hsi
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 電機資訊學院 - 電機工程學系
Department of Electrical Engineering
論文出版年: 2026
畢業學年度: 114
語文別: 中文
論文頁數: 96
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    2031-07-24公開
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