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研究生: 張翊軒
Chang, Yi-Hsuan
論文名稱: 以閘極蝕刻結合場板及氧化鉿鋁介電層之高性能氮化銦鋁鎵/氮化鎵高電子遷移率電晶體以提升巴利加優值
High-Performance Recessed Gate InAlGaN/GaN HEMTs with HfAlO Gate Dielectric and Field Plate Design for Enhanced BFOM
指導教授: 許渭州
Hsu, Wei-Chou
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 電機資訊學院 - 微電子工程研究所
Institute of Microelectronics
論文出版年: 2025
畢業學年度: 113
語文別: 英文
論文頁數: 75
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  • 無法下載圖示 校內:2030-07-13公開
    校外:2030-07-13公開
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