基板是薄膜電晶體液晶顯示器(TFT-LCD)製程當中的重要零組件之一，當TFT-LCD製程嚴格規範下，基板洗淨後的品質相對嚴謹要求，因此如何提升品質是供應商必須努力之課題。
本研究係以運用田口方法探討影響基板洗淨後的粒子數多寡，並從中找出最佳組合設計。因此分別找出四個控制因子，分別是「圓盤刷押入量」、「滾筒刷押入量」、「Cavitations Jet壓力」、「溫度」等水準組合，運用L9直交表進行實驗，並藉由訊號雜音比找出最佳組合。
經實驗結果得知最佳組合為A3、B3、C1、D1等組合。A因子「圓盤刷押入量」：8格、B因子「滾筒刷押入量」：3圈、C因子「Cavitations Jet壓力」：200kPa、D因子「溫度」：55度。對照組洗淨後粒子平均數落在500 ~ 600之間，最佳組合洗淨後粒子平均落在106 ~ 111之間，明顯比對照組下降80%。依此結果證明該最佳組合對於洗淨後整體粒子數下降是有其效果，相對的也提升洗淨品質及市場競爭力。

The substrate is one of the important components in the thin film transistor liquid crystal display (TFT-LCD) process. When the TFT-LCD process is strictly regulated, the quality of the substrate after cleaning is relatively strict. Therefore, in order to effectively improve the current cleaning effect, In this research, the Taguchi method is used to explore the influence of the number of particles after the substrate is cleaned, and to find the best combination design. So find out four control factors respectively, namely "disk brush insertion amount", "roller brush insertion amount", "Cavitations Jet pressure", "temperature" and other level combinations, use the L9 orthogonal meter to experiment, and use the Noise number ratio to find the best combination.
According to the experimental results, the best combination is A3, B3, C1, D1, etc. A factor "disc brush pushing amount": 8 grids, B factor "roller brush pushing amount": 3 turns, C factor "Cavitations Jet pressure": 200kPa, D factor "temperature": 55 degrees. The average number of particles after washing in the control group fell between 500 and 600, and the average number of particles after washing in the best combination fell between 106 and 111, which was significantly lower than the control group by 80%. Based on this result, it is proved that the optimal combination has an effect on the decrease of the overall particle number after washing, and relatively improves the washing quality and market competitiveness.

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