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研究生：	趙光品 CHAO, KUANG-PIN
論文名稱：	熱蒸鍍製程參數對金屬Mask及玻璃基板熱膨脹關係探討 Thermal expansion effects of evaporating parameters on OLED metal mask and glass substrate
指導教授：	周榮華 Chou, Jung-Hua
學位類別：	碩士 Master
系所名稱：	工學院 - 工程科學系碩士在職專班 Department of Engineering Science (on the job class)
論文出版年：	2009
畢業學年度：	97
語文別：	中文
論文頁數：	69
中文關鍵詞：	玻璃基板熱膨脹、OLED 、熱蒸鍍
外文關鍵詞：	evaporating, glass substrate thermal expansion, OLED.
相關次數：	點閱：73 下載：3
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本論文主旨係探討有機發光顯示器(Organic Light Emitting Display)在真空環境下使用熱蒸鍍製程將有機發光材料蒸鍍於玻璃基板，相關熱蒸鍍製程參數對於玻璃基板的熱膨脹量影響關係，包含熱蒸發源的溫度、蒸發源與玻璃基板間的距離、鍍膜的速度、鍍膜次數、玻璃基板冷卻等，對於玻璃基板表面溫度與金屬mask熱膨脹不匹配性之影響，利用溫度計算膨脹量估算兩者膨脹量差異，建立參數與膨脹量關係式進行模擬與驗證。
蒸發源與玻璃基板間距離調整30mm可使玻璃基板產生溫度差達3.4℃，玻璃與金屬mask膨脹量差6.9μm；鍍膜次數與速度影響玻璃基板接受熱輻射的時間，鍍膜時間差30sec，可使玻璃基板產生溫度差達0.8℃，玻璃與金屬mask膨脹量差1.6μm；以上兩項為主要影響玻璃基板表面溫度升高的重要因子，因此可使用這些參數關係控制膨脹量。

In the thesis we study the parameters affecting the thermal expansion of the metal mask and the glass of panel of Organic Light Emitting Display during the evaporation process, and establish the relationship between these parameters and the thermal expansion of glass substrate.
The parameters include heat source temperature, distance from the heat source to glass substrate, heat source scan speed, heat source scan times, chiller cooling temperature in vacuum chamber. Firstly we use different parameters to evaluate the effect of the surface temperature on the metal mask and the glass substrate to calculate the difference of thermal expansion between the metal mask and the glass substrate, to establish a table for further estimation purpose.
The main factors are the evaporator time, heat source temperature and the distance of heat source to glass substrate. Their relationships of the can be used to control the thermal expansion of the glass substrate.

中文摘要----------------------------------------------I
Abstract ---------------------------------------------II
誌謝 -------------------------------------------------Ⅲ
目錄 -------------------------------------------------Ⅳ
圖目錄------------------------------------------------Ⅸ
表目錄------------------------------------------------ XII
第一章、緒論
1-1	研究背景---------------------------------------1
1-2	研究動機---------------------------------------3
1-3	研究目的---------------------------------------6
1-3.1蒸鍍精度factor-----------------------------6
1-3.2 蒸鍍精度與開口率關係-----------------------8
   1-3.3 研究目標-----------------------------------9
1-4	文獻回顧---------------------------------------9
第二章、基本理論分析
2-1 名詞解釋----------------------------------------11
2-1.1 真空環境-----------------------------------11
2-1.2 熱蒸鍍製程---------------------------------12
2-1.3 蒸發源溫度---------------------------------13
2-1.4 蒸鍍技術-----------------------------------13
2-1.5 鍍膜行程-----------------------------------14
2-1.6 鍍膜速度-----------------------------------14
2-1.7 鍍膜次數-----------------------------------14
2-1.8 鍍膜時間-----------------------------------15
2-1.9 蒸發源與物體據間距離-----------------------15
2-1.10 玻璃冷卻水溫度----------------------------15
2-2 熱膨脹------------------------------------------16
2-2.1 線性膨脹(linear expansion)-----------------16
2-2.2 孔膨脹 (hole expansion)--------------------17
2-2.3 體膨脹 (volume expansion)------------------18
2-2.4 玻璃基板實際熱膨脹情況---------------------18
2-3 熱傳機制----------------------------------------20
2-3.1 熱傳導-------------------------------------20
2-3.2 熱對流-------------------------------------20
2-3.3 熱輻射 (Thermal radiation)-----------------21
2-3.4 輻射形狀因子(radiation shape factor)-------22
2-3.5 熱傳方程式 (heat transfer equation)-------23
2-4 理論分析 --------------------------------------24
2-4.1 蒸鍍熱傳方程式----------------------------24
2-4.2 預期模式----------------------------------24
2-5 達成方法 --------------------------------------25
第三章、實驗架構
3-1 實驗流程說明-----------------------------------26
3-2 實驗設備說明-----------------------------------27
3-2.1 蒸鍍設備----------------------------------27
3-2.2	 溫度紀錄器--------------------------------27
3-2.3	 金屬 mask---------------------------------28
3-2.4	 玻璃基板----------------------------------29
3-2.5 測長儀------------------------------------29
3-2.6螢光顯微鏡UVOM(二次元量測儀)--------------30
3-3 實驗計畫說明-----------------------------------31
3-3.1 首次實驗----------------------------------31
3-3.2  2ND 實驗計畫------------------------------33
3-4  實驗投入--------------------------------------34
3-4.1  玻璃基板變異確認----------------------34
3-4.2  量測儀器架設--------------------------35
3-5實驗數據蒐集----------------------------------35
3-5.1溫度器(thermocouple)量測位置------------35
3-5.2使用螢光顯微鏡量測實際鍍膜位置----------36
第四章、實驗結果
4-1 溫度量測數據說明-------------------------------37
  4-2  1st 實驗結果-----------------------------------38
4-2.1玻璃表面與Metal mask 溫度趨勢------------38
4-2.2 量測位置A與B溫度趨勢-------------------40
4-2.3 參數對於玻璃基板影響分析-----------------42
            1. 圖形說明------------------------------42
            2. ”鍍膜次數”關係實驗結果--------------42
3. ”鍍膜速度”關係實驗結果--------------44
4.“鍍膜時間”關係實驗結果---------------45
5. ”source溫度”關係實驗結果-----------48
6. ”冷卻水溫度”關係實驗結果------------49
7. 參數模擬table------------------------51
4-3	2nd 實驗結果(參數對於玻璃基板影響分析)-------52
      4-3.1 ”蒸發源距離”實驗結果------------------52
       4-3.2 參數模擬 Table-------------------------53
4-3.3 玻璃基板表面溫度與膨脹量估算-----------54
4-3.4	 實際鍍膜位置量測-----------------------56
4-4  實驗誤差-------------------------------------62
4-4.1 參數模擬table誤差-----------------------62
4-4.2 實際鍍膜位置誤差-------------------------62
第五章、結論與建議
5-1 實驗結論：------------------------------------64
5-2 未來研究方向----------------------------------65
參考文獻
                                    

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校內：2010-09-01公開
校外：2010-09-01公開

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