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| 研究生： |
石逸翔 Shih, Yi-Hsiang |
|---|---|
| 論文名稱： |
低溫電漿強化化學氣相沉積之石墨烯/銅複合導線製備與應用 Process and Application of Graphene/Copper Composite Interconnects via Low-Temperature Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition |
| 指導教授： |
涂維珍
Tu, Wei-Chen |
| 學位類別： |
博士 Doctor |
| 系所名稱： |
電機資訊學院 - 奈米積體電路工程碩士博士學位學程 MS Degree/Ph.D. Program on Nano-Integrated-Circuit Engineering |
| 論文出版年： | 2026 |
| 畢業學年度： | 114 |
| 語文別： | 英文 |
| 論文頁數： | 190 |
| 相關次數： | 點閱：32 下載：0 |
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2031-07-16公開