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| 研究生： |
黃大祐 Huang, Ta-Yu |
|---|---|
| 論文名稱： |
以閘極蝕刻技術研製氮化鋁鈧/氧化鋁閘極堆疊可調變式增強型高電子遷移率鐵電電晶體 Recessed-Gate Tunable E-Mode Ferroelectric High Electron Mobility Transistor with AlScN/Al2O3 Gate Stack |
| 指導教授： |
王永和
Wang, Yeong-Her |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
智慧半導體及永續製造學院 - 半導體製程學位學程 Program on Semiconductor Manufacturing Technology |
| 論文出版年： | 2024 |
| 畢業學年度： | 112 |
| 語文別： | 英文 |
| 論文頁數： | 88 |
| 相關次數： | 點閱：121 下載：0 |
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校內：2029-08-20公開校外：2029-08-20公開