奈米壓印技術（Nanoimprint Lithography）是在1995年由Stephen Y. Chou教授提出，此技術具有成本低、高解析度、產能高的特點。奈米壓印技術並不使用曝光源，所以它的解析度不受光對阻劑的繞射、散射和干涉作用以及基板的背向散射作用所影響到。
　　壓印技術的第一步就是模具的製作，由模具來定義圖案。本研究嘗試製作出矽、石英和玻璃三種材質的模具，另外還有三維尺度的矽模具和應用於混合型壓印製程的混和型模具；分析製程參數對模具的均勻性的影響。還針對高溫壓印製程和混合型壓印製程，進行製程的研究和探討。並以可撓曲的PET基板進行圖案轉移，基板表面濺鍍一層氧化銦錫薄膜，利用草酸來蝕刻氧化銦錫將其圖案化。
　　在本研究中，已可將矽和石英模具的均勻性提高至97%以上，其中RIE對石英基板的蝕刻速率更是大幅提昇。另外，混和型模具的深度可達17μm，使得混合型壓印製程具有高深寬比的能力。在壓印製程方面，經由實驗發覺高溫壓印的平均壓力值遠小於文獻記載；而且也以滾輪式混合型壓印製程進行圖案轉移，此製程具有低成本、製程簡單和製程時間短的特性。最後分別利用這兩種壓印製程，完成大尺寸的有機發光顯示器的製作並量測其元件特性，包含驅動電壓、亮度、電流效率和輝度效率。

　　In 1995, Professor Stephen Y. Chou proposed nanoimprint lithography technique, and it is low cost, high resolution, and high-throughput. Nano- imprint lithography does not utilize any energetic beams; its resolution is not limited by the effects of wave diffraction, scattering and interference in a resist, and backscattering from the substrate.
　　The first step of nanoimprint lithography is mold fabrication, and pattern is defined by the mold. In this study, we successfully make three kinds of molds, including silicon, quartz and glass molds for hot embossing and room- temperature lithography. Three-dimension mold and hybrid mold are also fabricated. The effects of fabrication parameter on the mold’s configuration uniformity are investigated. Pattern transforms to ITO film sputtered with flexible PET substrate by oxalic acid.
　　In this research, we demonstrate that the uniformities of silicon and quartz molds are both high than 97%; especially quartz etching rate increases a lot by RIE. The hybrid mold’s depth can arrive 17μm which show high aspect ratio. In addition, the pressure under experiments is smaller than the data published elsewhere. Roller hybrid imprint lithography is then used to transfer the pattern to the substrate. It is a low cost, easy process, and short process time method. Finally, large-scaled flexible organic light emitting displays are fabricated by imprint lithography and hybrid imprint lithography and devices’ characteristics are investigated, such as turn-on voltage, luminance, current efficiency, and power efficiency.

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