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研究生： 吳柏蒼
Wu, Po-Tsang
論文名稱： Ni80Fe20/Ir(111)/Ni80Fe20三層膜之磊晶成長與磁耦合研究
Studies of the Epitaxial Growth and Magnetic Coupling of Ni80Fe20/Ir(111)/Ni80Fe20 Trilayers
指導教授： 黃榮俊
Huang, J. C. A.
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 理學院 - 物理學系
Department of Physics
論文出版年： 2003
畢業學年度： 91
語文別： 中文
論文頁數： 117
中文關鍵詞： 巨磁阻 、交換耦合效應 、三層膜
外文關鍵詞： GMR, exchange coupling, sandwich
相關次數： 點閱：72  下載：1 
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    • 我們使用分子束磊晶(MBE)成長晶向為fcc(111)的Ni80Fe20/ Ir/ Ni80Fe20三層膜系統來研究其界面之交換耦合行為。我們觀測到在Ni80Fe20/ Ir(tIr Å)/ Ni80Fe20三層膜(tIr = 5~40)產生異常的振盪交換耦合現象，其反鐵磁耦合的極值發生在Ir厚度為7、19、28、40 Å處，而最大的反鐵磁耦合強度在Ir厚度7 Å時為2.32 erg/cm2，但我們發現到其振盪耦合週期長度並不一致，可能與Ir(111)複雜的費米面之延展向量所造成長短週期疊加的結果。

    The molecular beam epitaxy (MBE) growth fcc(111) oriented Ni80Fe20/Ir/ Ni80Fe20 trilayers were prepared to study the interlayer exchange coupling. We found that Ni80Fe20/Ir (tIr Å)/ Ni80Fe20 (tIr = 5~40) sandwich exhibit anomalous oscillatory exchange coupling strength. The antiferromagnetic (AF) peaks appear at tIr =7, 19, 28, 40 Å, and the maxima AF coupling strength is about 2.32 erg/cm2 with tIr =7 Å, however, the oscillation period is not the same, may course by the superposition of the spanning vector of the complicated Ir(111) Fermi surface.

    第一章 簡介 § 1-1前言 1 § 1-2交換耦合效應與RKKY理論 3 § 1-3近代相關文獻研究 11 § 1-4 Co/Ir多層膜之交換耦合研究 14 § 1-4-1 Study of Epitaxial Co/Ir(001) Superlattices 16 § 1-4-2 Study of Sputtering Co/Ir(110) multilayers 17 § 1-4-3 Study of Epitaxial Co/Ir(111) Superlattice 18 § 1-5 Review Articles 19 【Reference】 23 第二章 磁學理論簡介 § 2-1磁性的來源 24 § 2-2磁異向性介紹 26 § 2-2-1磁晶異向性 27 § 2-2-2形狀異向性 31 § 2-2-3應力磁異向性 35 § 2-2-4交換磁異向性 41 § 2-3磁異向性的量測 43 § 2-4磁阻的簡介 48 § 2-5 GMR效應 50 【Reference】 56 第三章 實驗儀器介紹與實驗步驟 § 3-1分子束磊晶系統 57 § 3-2實驗量測儀器 63 § 3-2-1 X-ray繞射儀 63 § 3-2-2磁光Kerr效應儀 64 § 3-2-3反射式高能電子繞射儀 71 § 3-2-4震動式磁力計 73 § 3-3實驗步驟 74 § 3-3-1系統真空環境的準備 74 § 3-3-2基板的準備 75 § 3-3-3樣品成長 76 【Reference】 77 第四章 實驗結果和討論 § 4-0 Preparation of the Experiment 78 § 4-1 [Ni80Fe20/Ir(tIr Å)/Ni80Fe20]三層膜在Al2O3(11-20)基板之成長結構與機制 81 § 4-1-1 Study of the Surface Structure by RHEED Pattern 82 § 4-1-2 Study of the Bulk Structure by X-ray Diffraction 84 § 4-1-3 Study of the Bulk Structure by Synchrotron Radiation 91 § 4-2 改變Ir厚度對於[Ni80Fe20/Ir(tIrÅ)/Ni80Fe20]三層膜反鐵磁耦合之影響 96 § 4-3 變化Ir成長溫度對於[Ni80Fe20/Ir(tIr Å)/Ni80Fe20]三層膜反鐵磁耦合之影響 105 § 4-3-1 Growth on Al2O3(11-20) substrate 107 § 4-3-2 Growth on Al2O3(1-102) substrate 112 【Reference】 116 第五章 結論 117

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    下載圖示 校內：立即公開
    校外：2003-08-07公開
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